13.5nm 下可實(shí)現(xiàn)的最大反射

極紫外(EUV) 平面反射鏡提供5°和45°AOI 版本，在13.5 nm 下可獲得近乎理想的反射率，是EUV光譜中擁有最高反射率的波長(zhǎng)。RoHS 兼容型反射鏡提供一種沉積在超拋光單晶硅基片上的鍍膜，具有優(yōu)越的熱穩(wěn)定性。這些EUV 平面鏡的表面粗糙度小于3Å RMS，可大大降低入射光的散射。多層金屬/半導(dǎo)體鍍膜包括具有硅表層的鉬/硅多層。45°AOI 平面鏡在632.8 nm 和6.35 mm 厚度下的表面平整度為λ/10，非常適合轉(zhuǎn)向S 偏振光束，5°AOI 平面鏡則非常適用于非偏振光束。

適用于CDI 和材料科學(xué)研究

極紫外(EUV) 平面反射鏡用于相干衍射成像(CDI) 和材料科學(xué)研究等新興應(yīng)用。CDI 是一種非接觸式成像技術(shù)，可以達(dá)到接近10nm 的分辨率，常用來(lái)分析極小的納米結(jié)構(gòu)。反射鏡也被用作高諧波生成(HHG) 光束的諧波選擇器。極紫外(EUV) 平面反射鏡有現(xiàn)貨，可立即交付。

關(guān)于愛(ài)特蒙特光學(xué)

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