近日，中科院合肥研究院安光所激光中心準(zhǔn)分子激光團(tuán)隊(duì)在氟化鈣(CaF2)晶體的準(zhǔn)分子激光誘導(dǎo)損傷方面取得新進(jìn)展，相關(guān)結(jié)果發(fā)表在Applied Surface Science等期刊。

CaF2晶體是紫外光學(xué)系統(tǒng)中的重要元件，尤其在半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)中，CaF2晶體直接影響了系統(tǒng)的穩(wěn)定性和壽命，因此研究CaF2晶體的抗激光損傷能力在半導(dǎo)體光刻、光電對抗等應(yīng)用領(lǐng)域具有重要意義。鑒于此，團(tuán)隊(duì)梁勖研究員和邵景珍副研究員利用自研的193 nm和248 nm深紫外準(zhǔn)分子激光，對CaF2晶體開展了激光誘導(dǎo)損傷研究。通過分析CaF2晶體晶面、解理面和滑移面三者之間的關(guān)系，總結(jié)了248 nm準(zhǔn)分子激光對CaF2晶體(111)、(110)和(100)三個不同晶面的損傷機(jī)制。同時，在193 nm準(zhǔn)分子激光輻照下，CaF2晶體表面形成了激光誘導(dǎo)周期性條紋結(jié)構(gòu)（LIPSS），該結(jié)構(gòu)的形成對CaF2晶體表面的激光微處理具有重要的指導(dǎo)意義。

上述研究工作得到中國科學(xué)院科研儀器設(shè)備研制項(xiàng)目、國家自然科學(xué)基金、中科院青年創(chuàng)新促進(jìn)會及脈沖功率激光技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室開放基金等項(xiàng)目的支持。

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