PVD是物理氣象沉積的英文Physical Vapor Deposition 的縮寫(xiě)。PVD是一種通過(guò)物理過(guò)程，將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的技術(shù)。利用PVD技術(shù)，可以使某些有特殊性能，如強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等的微粒噴涂在性能較低的基材上，從而提升基材的性能，如PVD鍍膜。

 

PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法。制得的薄膜的內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力，非常適合用于硬質(zhì)合金刀具的涂層處理。而且，它能夠制得各種單一金屬膜、氮化物膜、碳化物膜，以及氧化物膜。PVD鍍膜技術(shù)最初的成功應(yīng)用是在高速鋼刀具領(lǐng)域，它提升了高速鋼刀具的強(qiáng)度、耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性。此后，便漸漸擴(kuò)展應(yīng)用到其他行業(yè)領(lǐng)域，如3C電子。目前市面的許多手機(jī)都應(yīng)用了PVD鍍膜技術(shù)，如IPhone X、華為nova 2 Plus、小米6。

 

由于PVD鍍膜技術(shù)較為復(fù)雜，所以生產(chǎn)過(guò)程中難免會(huì)出現(xiàn)不良品。因此就要對(duì)不良品進(jìn)行退鍍處理，即退除制件表面的鍍層。而PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度更小 ，因此對(duì)退鍍技術(shù)以及設(shè)備提出了苛刻的要求：既要消除鍍層，又要不傷害到工件。

 

因此，皮秒超快激光器應(yīng)運(yùn)而生。皮秒超快激光器具有能量高，脈寬窄（<10ps），光束輸出質(zhì)量高的優(yōu)點(diǎn)，非常適合用于PVD鍍膜層退鍍的處理。皮秒超快激光器工作時(shí)會(huì)產(chǎn)生熱量，因此需要配置激光冷水機(jī)進(jìn)行冷卻。而它對(duì)冷水機(jī)也是有要求的：制冷穩(wěn)定、溫控精準(zhǔn)。

 

廣州特域機(jī)電有限公司研發(fā)生產(chǎn)的特域紫外冷水機(jī)CWUL－10管道設(shè)計(jì)合理，性能穩(wěn)定，可有效減少出水對(duì)激光器的沖擊，間接延長(zhǎng)皮秒超快激光器的壽命。它含有多種信號(hào)反饋功能，實(shí)時(shí)智能監(jiān)測(cè)激光器的狀況。而且，它通過(guò)了ISO9001質(zhì)量認(rèn)證和CE、ROHS等國(guó)際認(rèn)證，是綠色環(huán)保產(chǎn)品，適用于國(guó)內(nèi)外大多數(shù)品牌的皮秒級(jí)超快激光器的冷卻。